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搪玻璃反应锅的搪烧工艺规范
日期:[2019-11-13 15:36:21]   共阅[1002]次
  搪玻璃反应锅在设备的制造过程中,会因为卷筒、冲压、焊接等工艺产生大量的内应力,这些应力在搪烧底釉前就应采用热处理进行消除,这样才能够减少搪烧次数,确保搪玻璃设备的生产效率。给反应锅设备搪烧二氧化硅玻璃需要按照工艺规范进行:
  1、搪玻璃反应锅瓷层厚度规定是0.8-2mm,搪烧的次数应该在5-7次。瓷层的厚度,一般要求1mm左右。具体根据使用要求而定,如考虑传热,应使瓷釉层薄些,不需传热而使用的介质腐蚀牲严重时,瓷釉层厚些。要达到规定瓷厚,产品上的面釉要喷搪多遍。每遍厚度以薄一些为好。但考虑生产效率,也不能太薄,一般以控制每遍厚度增加0.2mm为佳。
  2、为保证搪烧质量,每喷搪一遍,都要经过检查,检查瓷面上是否有暗泡、针孔等,一经查到就应打磨开进行修补。对于直通金属表面的针孔和暗泡要磨挖,甚至补焊。凡见底金属的修补处,需要补喷底釉。上述修补程序是每个喷搪操作者需要掌握的。
  3、设备在制造过程中产生的应力除用退火的方式释放外,还要在设备搪烧好后至少静置15天,成品设备在静置期没有爆瓷方可出厂。
  需要补充一点的是,减少搪烧次数是在满足技术要求的前提下完成的,有许多的企业在生产时为了减少搪烧次数而增大每次喷釉的厚度。这样在搪烧时玻璃层容易出现烧不透、夹生等问题,搪玻璃层的耐腐蚀性能得不到保障,且层与层之间结合不好,容易爆瓷,所以一定要按照搪瓷工艺规程进行操作。

搪玻璃反应锅

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